Máquina de recubrimiento de pulverización catódica PVD
DOI:
https://doi.org/10.46842/ipn.cien.v25n2a03Palabras clave:
depósito de material, PVD, plasma, tecnología de materialesResumen
En este trabajo se abordará el diseñó de una máquina a escala de depósitos por pulverización catódica (PVD) para uso estudiantil. Esto a partir de la generación y focalización de plasma de manera controlada en un sistema de vacío con el apoyo de un sistema de alto voltaje. Por medio de este diseño se consiguió realizar un depósito de aluminio visible sobre sustratos de vidrio durante una ronda sencilla de pruebas. Este tipo de sistema puede abrir las puertas a proyectos futuros en tecnología de materiales, así como la investigación en áreas como la óptica o la tribología a nivel universitario.
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